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創新的極紫外光微影技術大幅提高能源效率並降低半導體製造成本 Innovative EUV Lithography Technology Dramatically Increases Energy Efficiency and Reduces Capital Cost of Semiconductor Manufacturing
用於手機等行動裝置的低功耗晶片,以及機器中使用的高密度 DRAM記憶體,所有這些先進的半導體晶片都是使用極紫外光(extreme ultraviolet, EUV)微影技術製造的。然而,半導體的生產面臨著設備高功耗和複雜性的挑戰,這大大增加安裝、維護和功耗的成本。為此,沖繩科學技術學院(Okinawa Institute of Science and Technology, OIST)提出超越半導體製造標準的極紫外光微影技術,此設計的EUV微影可以與更小的EUV光源配合使用,進而降低成本並顯著提高機器的可靠性和使用壽命,它的功耗還不到傳統EUV微影機的十分之一,有助於半導體產業變得更環保、更永續。OIST創新技術模型設計簡化,僅需要兩個反射鏡與20W 的光源,即可將系統的總功耗降低至100kW 以下,是傳統技術(通常需要1,000kW以上)的十分之一。全球EUV微影市場預計將從2024年的89億美元成長到2030年的174億美元,年均成長率約為12%。OIST已對該技術申請專利,將透過示範實驗投入實際應用,預計這項專利有可能產生巨大的經濟效益,除了對半導體產業發揮變革性影響之外,亦有助於解決能源消耗和脫碳等問題。
2024/08/12
https://www.oist.jp/news-center/news/2024/7/29/innovative-euv-lithography-technology-dramatically-increases-energy-efficiency-and-reduces-capital
Okinawa Institute of Science and Technology (OIST)
莊純琪